リスキノン20

商品説明

リスキノン20は、プラセンタエキスを20％濃度で配合した、贅沢なスキンケアクリームです。

使用しているプラセンタエキスには「W酵素分解」を施しました。有用成分が角層のすみずみまで浸透し、乾燥などの外部刺激によるダメージを受けた肌を健やかに保つようサポートします。

急な肌荒れを防ぎたい時の集中ケアを目的に開発。プラセンタエキスと、肌を整える2種類の成分（※1）を厳選して配合しました。デリケートでゆらぎやすい肌を速やかに整え、しっとりと落ち着かせます。

テクスチャーにもこだわり、肌にピタッと密着。塗ったポイントにとどまって、乾燥から長時間保護します。
また、有用成分が角層までスムーズに行きわたるよう設計。ケアしたい部分に効率よくアプローチし、美容施術後のデリケートな状態の肌保護にもおすすめです。

※1 グリチルリチン酸2K、アラントイン（ともに整肌成分）
※ 浸透は角質層まで

メーカー：株式会社UTP

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使用方法

清潔にした指先や、綿棒などに適量をとり、気になる部分になじませてください。

主要成分

水、BG（ヒマワリ種子油／水添ヒマワリ種子油）エステルズ、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール、トリ（カプリル酸／カプリン酸）グリセリル、トリイソステアリン、加水分解水添デンプン、ジグリセリン、ヒマワリ種子油、アラキデスｰ20、プラセンタエキス、グリチルリチン酸２Ｋ、アラントイン、シクロヘキサンｰ1,4‐ジカルボン酸ビスエトキシジグリコール、コハク酸ジエトキシエチル、ペンタ（ベヘン酸／エイコサンニ酸）ポリグリセリルｰ10、ラウロイルグルタミン酸ジフィトルテリル／オクチルドデシル）、ジフェニルシロキシフェニルトリメチコン、ジメチコン、カルボマー、水酸化Ｋ、トコフェロール、メチルパラベン、プロピルパラベン

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